特許
J-GLOBAL ID:200903034829990471
照射された感放射線ポジ作動性およびネガ作動性および反転性の複写層用現像液組成物およびかかる層の現像法
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐藤 一雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-244383
公開番号(公開出願番号):特開平5-142785
出願日: 1991年08月29日
公開日(公表日): 1993年06月11日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 感放射線化合物または感放射線化合物の組み合わせに加えて必須成分として水不溶性であるが水性-アルカリ性溶液に可溶性である結合剤を含有する感放射線ポジ作動性およびネガ作動性および反転性複写層用現像液組成物を提供する。【構成】 必須成分として、a)O-カルボキシメチル-またはO,O′-ビス-カルボキシメチルエチレングリコールまたは2〜約500個のエチレングリコール単位を含む適宜置換されたポリエチレングリコール、b)アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属ケイ酸塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属ホウ酸塩、水酸化アンモニウム、ケイ酸アンモニウム、リン酸アンモニウムおよびホウ酸アンモニウムを含めた群から選ばれる少なくとも1種の化合物、およびc)水を含有する現像液組成物。
請求項(抜粋):
感放射線化合物または感放射線化合物の組み合わせに加えて必須成分として水不溶性であるが水性-アルカリ性溶液に可溶性である結合剤を含有する感放射線ポジ作動性、ネガ作動性および反転性の複写層用現像液組成物であって、必須成分として、a)O-カルボキシメチルエチレングリコールまたはO,O′-ビス-カルボキシメチルエチレングリコールまたは2〜約500個のエチレングリコール単位を含む適宜置換されたポリエチレングリコール、b)アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属ケイ酸塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属ホウ酸塩、水酸化アンモニウム、ケイ酸アンモニウム、リン酸アンモニウムおよびホウ酸アンモニウムを含めた群から選ばれる水溶液中でアルカリ反応を示す少なくとも1種の化合物、およびc)水を含むことを特徴とする現像液組成物。
引用特許:
審査官引用 (3件)
-
特開昭61-185745
-
特開昭63-204254
-
特開昭61-215554
前のページに戻る