特許
J-GLOBAL ID:200903034832052326
液晶表示装置の製造装置およびその方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-290666
公開番号(公開出願番号):特開2001-108977
出願日: 1999年10月13日
公開日(公表日): 2001年04月20日
要約:
【要約】【課題】 従来のバッチ式洗や枚葉式洗浄方式では、洗浄中に基板表面より除去された異物が再付着しやすく、高い異物除去効果が得られないという課題がある。【解決手段】 枚葉式で基板の洗浄,ウェットエッチング,レジスト剥離等を行う洗浄装置であって、基板の平面は進行方向に水平に対して5〜30°上向きの傾斜をもって設置され、基板は水平に対して5〜30°の傾斜をもって上昇しながら移動する構成とする。
請求項(抜粋):
枚葉式で基板の洗浄,ウェットエッチング,レジスト剥離等を行う洗浄装置であって、基板の平面は進行方向に水平に対して5〜30°上向きの傾斜をもって設置され、基板は水平に対して5〜30°の傾斜をもって上昇しながら移動することを特徴とする液晶表示装置の製造装置。
IPC (4件):
G02F 1/1333 500
, B08B 11/04
, G02F 1/13 101
, G09F 9/00 338
FI (4件):
G02F 1/1333 500
, B08B 11/04
, G02F 1/13 101
, G09F 9/00 338
Fターム (22件):
2H088EA02
, 2H088FA17
, 2H088FA21
, 2H088FA30
, 2H088HA01
, 2H088MA20
, 2H090HC18
, 2H090JC19
, 3B116AA02
, 3B116AB14
, 3B116AB23
, 3B116BB24
, 3B116BB33
, 3B116BB83
, 3B116CC01
, 3B116CC03
, 3B116CD34
, 5G435AA17
, 5G435BB12
, 5G435GG46
, 5G435KK05
, 5G435KK10
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