特許
J-GLOBAL ID：200903034832293587
光ディスク基板及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 純博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-204619
公開番号（公開出願番号）：特開平9-054982
出願日： 1995年08月10日
公開日（公表日）： 1997年02月25日
要約：
【要約】【課題】 2,2-ビス(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパンからのポリカーボネート樹脂を用いてピットを正確に転写し、エラーレートが良好な且つ吸湿による反りの少ない光ディスク基板を提供する。【解決手段】 2,2-ビス(3-メチル-4ヒドロキシフェニル)プロパンを主とする二価フェノールにカーボネート前駆物質を反応させて得られるポリカーボネート樹脂より形成され、該ポリカーボネート樹脂は(A)比粘度が0.2〜0.4であり、(B)塩化メチレン溶液中で測定された未溶解粒子がポリカーボネート樹脂1g 当り粒子換算直径0.5μm 以上のものが25,000個以下、1μm 以上のものが500個以下であり且つ(C)吸水率が0.2重量%以下であることを満足する樹脂により形成されていることを特徴とする光ディスク基板及びその製造方法。
請求項（抜粋）：
2,2-ビス(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパンを主とする二価フェノールにカーボネート前駆物質を反応させて得られるポリカーボネート樹脂より形成され、該ポリカーボネート樹脂は(A)その0.7g を塩化メチレン100mlに溶解した溶液の20°Cにおいて測定された比粘度が0.2〜0.4であり、(B)その塩化メチレン溶液中で測定された未溶解粒子がポリカーボネート樹脂1g 当り粒子換算直径0.5μm 以上のものが25,000個以下、1μm 以上のものが500個以下であり且つ(C)吸水率が0.2重量%以下であることを満足する樹脂により形成されていることを特徴とする光ディスク基板。
IPC (2件)：
G11B 7/24 526
, G11B 7/26 521
G11B 7/24 526 G
, G11B 7/26 521
