特許
J-GLOBAL ID：200903034835072239
記録ヘッド用基板の製造方法、及びポジ型感光性レジストの膜厚修正方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-242245
公開番号（公開出願番号）：特開平6-091884
出願日： 1992年09月10日
公開日（公表日）： 1994年04月05日
要約：
【要約】【目的】 記録ヘッドの製造において、吐出エネルギー発生素子の保護膜の剥離を防止し、また流路壁を構成するポジ型レジストの膜厚を制御する。【構成】 保護膜の形成部分に予め紫外線を照射する。また、流路壁を構成するポジ型レジストに紫外線を照射してレジスト上面を可溶化し、これによりレジスト膜厚を制御する。
請求項（抜粋）：
基板支持体上に発熱抵抗層及び電極層を順次積層後、前記発熱抵抗層及び電極層を所定の形状にエッチングして電気熱変換体及び電極を形成し、次いで前記電気熱変換体及び前記電極を含んで前記基板支持体上面に保護膜を形成する記録ヘッド用基板の製造方法において、前記保護膜を形成する前に予め光量が300〜6000mJ/cm2 の紫外線を前記電気熱変換体、前記電極、及び前記基板支持体上面に照射することを特徴とする記録ヘッド用基板の製造方法。
IPC (2件)：
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