特許
J-GLOBAL ID:200903034844072209

充填層を用いた下水処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 名嶋 明郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-230235
公開番号(公開出願番号):特開平6-071290
出願日: 1992年08月28日
公開日(公表日): 1994年03月15日
要約:
【要約】【目的】 広いスペースや大容量のポンプを必要とせずに下水の高度処理を行うことができる充填層を用いた下水処理装置を提供する。【構成】 槽体1の内部を垂直な隔壁2により充填層側と水路側とに分け、充填層側には上段に好気槽7を、下段に嫌気槽8を設ける。第1の発明では被処理水は充填層を下向流で流れ、隔壁2の下端の流通部3から折り返し流路4に入り、酸素を供給されて排出される。第2の発明では、被処理水は流入水路の下端から充填層に入り、その内部を上向流で流れたうえ一部は排出され、一部は流入水路へ循環される。
請求項(抜粋):
底部に支持層を持つ槽体の内部を下端に流通部を持つ垂直な隔壁により充填層側と折り返し流路側とに区画し、充填層側の上段部には比重が比較的小さい粒子を充填するとともに散気配管を設けて好気槽を形成し、また充填層側の下段部には比重が比較的大きい粒子を充填するとともにメタノール注入管を設けて嫌気槽を形成し、更に折り返し流路の下部にオゾン又は空気の供給器を設けたことを特徴とする充填層を用いた下水処理装置。
IPC (6件):
C02F 3/34 101 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/78 ,  C02F 3/06 ,  C02F 3/10 ,  C02F 9/00
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開昭56-081197
  • 特開平2-191594
  • 特開昭54-108458

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