特許

J-GLOBAL ID：200903034849535444

プラスチック基板およびそれを用いた薄膜積層デバイスの製造方法

発明者： 齊藤 裕一 ,  山川 真弥 ,  中村 渉
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 西教 圭一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-378944
公開番号（公開出願番号）：特開2002-178423
出願日： 2000年12月13日
公開日（公表日）： 2002年06月26日
要約：

【要約】【課題】 耐熱性、耐薬品性および耐プラズマ性に優れたプラスチック基板およびそれを用いた薄膜積層デバイスの製造方法を提供する。【解決手段】 プラスチック基板1は、シート状のプラスチックフィルム基材2、表面保護膜3,4および側面保護膜5から構成される。前記プラスチックフィルム基材2の一方表面2aに表面保護膜3が形成され、他方表面2bに表面保護膜4が形成される。また、プラスチックフィルム基材2の側面2c、表面保護膜3の側面3cおよび表面保護膜4の側面4cに、これらプラスチックフィルム基材2、表面保護膜3および表面保護膜4の境界を覆うように側面保護膜5が形成される。したがって、プラスチック基板1は、耐熱性、耐薬品性および耐プラズマ性に優れる。

請求項（抜粋）：

シート状のプラスチックフィルム基材と、このプラスチックフィルム基材の少なくとも一方の表面に形成される表面保護膜と、前記プラスチックフィルム基材と前記表面保護膜との側面に形成され、前記プラスチックフィルム基材と前記表面保護膜との境界を覆う側面保護膜とから成ることを特徴とするプラスチック基板。

IPC (5件)：

B32B 3/02 ,  B32B 7/02 104 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1333 505 ,  H01L 29/786

FI (5件)：

B32B 3/02 ,  B32B 7/02 104 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1333 505 ,  H01L 29/78 626 C

Fターム (84件)：

2H090HA04 ,  2H090HA05 ,  2H090HB02X ,  2H090HB07X ,  2H090HB18X ,  2H090HC01 ,  2H090HC03 ,  2H090HC05 ,  2H090HC12 ,  2H090HC13 ,  2H090JA07 ,  2H090JB03 ,  2H090JC07 ,  2H090JC13 ,  2H090JD08 ,  2H090JD17 ,  2H090LA01 ,  2H090LA04 ,  4F100AA12B ,  4F100AA20B ,  4F100AK01A ,  4F100AK02A ,  4F100AK25B ,  4F100AK36B ,  4F100AK42A ,  4F100AK42B ,  4F100AK43A ,  4F100AK45A ,  4F100AK46B ,  4F100AK49A ,  4F100AK51B ,  4F100AK53B ,  4F100AK55A ,  4F100AS00B ,  4F100BA02 ,  4F100DB16 ,  4F100DB16A ,  4F100DB16B ,  4F100DB17 ,  4F100EH66 ,  4F100GB41 ,  4F100GB43 ,  4F100JB01 ,  4F100JB13B ,  4F100JB14B ,  4F100JG01A ,  4F100JG01B ,  4F100JJ03 ,  5F110AA21 ,  5F110AA22 ,  5F110AA23 ,  5F110BB01 ,  5F110CC07 ,  5F110DD01 ,  5F110DD12 ,  5F110DD13 ,  5F110DD14 ,  5F110DD17 ,  5F110DD18 ,  5F110DD24 ,  5F110DD30 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE44 ,  5F110GG02 ,  5F110GG15 ,  5F110GG35 ,  5F110GG45 ,  5F110HK03 ,  5F110HK04 ,  5F110HK07 ,  5F110HK09 ,  5F110HK16 ,  5F110HK21 ,  5F110HK35 ,  5F110HL07 ,  5F110HL23 ,  5F110NN02 ,  5F110NN03 ,  5F110NN24 ,  5F110NN27 ,  5F110NN35 ,  5F110NN36 ,  5F110QQ09