特許
J-GLOBAL ID:200903034856163293
希土類金属錯体を用いる分析方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
森田 憲一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-177440
公開番号(公開出願番号):特開2001-356128
出願日: 2000年06月13日
公開日(公表日): 2001年12月26日
要約:
【要約】【課題】 希土類金属錯体を用いる新規分析方法を提供する。【解決手段】 希土類金属と、前記希土類金属と一緒になって蛍光発生可能な希土類金属錯体を形成することができるリガンドとから形成される希土類金属錯体を蛍光標識物質として用いる分析工程を、有機溶媒の存在下にて行ない、遊離の希土類金属錯体由来又は分析対象物質以外の物質に結合した希土類金属錯体由来の蛍光の干渉を排除する。
請求項(抜粋):
希土類金属と、前記希土類金属と一緒になって蛍光発生可能な希土類金属錯体を形成することができるリガンドとから形成される希土類金属錯体を蛍光標識物質として用いる分析工程を、有機溶媒の存在下にて行ない、遊離の希土類金属錯体由来又は分析対象物質以外の物質に結合した希土類金属錯体由来の蛍光の干渉を排除することを特徴とする、分析方法。
IPC (6件):
G01N 33/58
, C12Q 1/48
, C12Q 1/68
, G01N 21/78
, G01N 33/52
, G01N 21/64
FI (7件):
G01N 33/58 Z
, G01N 33/58 A
, C12Q 1/48
, C12Q 1/68 A
, G01N 21/78 C
, G01N 33/52 C
, G01N 21/64 F
Fターム (53件):
2G043AA03
, 2G043BA16
, 2G043CA03
, 2G043DA02
, 2G043DA05
, 2G043EA01
, 2G043EA13
, 2G043EA18
, 2G043EA19
, 2G043GA07
, 2G043GB21
, 2G043JA01
, 2G043LA01
, 2G043MA01
, 2G045AA35
, 2G045BA01
, 2G045BB02
, 2G045DA12
, 2G045DA13
, 2G045DA14
, 2G045DA36
, 2G045DA54
, 2G045FB01
, 2G045FB02
, 2G045FB03
, 2G045FB05
, 2G045FB06
, 2G045FB07
, 2G045FB12
, 2G045GC15
, 2G054AA02
, 2G054AA06
, 2G054AB07
, 2G054BA01
, 2G054BB20
, 2G054CA22
, 2G054CA23
, 2G054CA30
, 2G054CE02
, 2G054EA03
, 2G054GA04
, 2G054GB02
, 4B063QA01
, 4B063QQ42
, 4B063QQ79
, 4B063QR50
, 4B063QR58
, 4B063QS12
, 4B063QS16
, 4B063QS17
, 4B063QS34
, 4B063QS36
, 4B063QX02
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