特許

J-GLOBAL ID：200903034863915489

フェライト被覆粒子及びその製法

発明者： 佐々木 基寛 ,  磯村 光男 ,  松川 真彦 ,  芦原 義弘 ,  吉岡 克昭 ,  岡田 政久 ,  阿南 真
出願人/特許権者： 日本ペイント株式会社
代理人 (1件)： 津国 肇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-238957
公開番号（公開出願番号）：特開平6-231957
出願日： 1993年08月31日
公開日（公表日）： 1994年08月19日
要約：

【要約】【目的】 核粒子へのフェライト粒子の被覆率を高くすることにより、適応性の高い磁性材料を提供する。【構成】 水又は水溶液に核粒子を分散させ、このものに第1鉄イオン水溶液、酸化剤水溶液及びpH調整剤を、pH-酸化還元電位の関係が特定の範囲内になるように添加し、酸化剤水溶液と第1鉄イオン水溶液の供給速度比率を0.1〜15x10-3で行うフェライト被覆粒子の製造法。

請求項（抜粋）：

核粒子をフェライト粒子で被覆したフェライト被覆粒子であって、フェライト粒子の粒径が4〜50nmであり、核粒子とフェライト粒子の粒径比が8/1〜80/1であることを特徴とするフェライト被覆粒子。

IPC (5件)：

H01F 10/20 ,  C01G 49/00 ,  G01N 33/553 ,  H01F 1/00 ,  H01F 41/24