製膜方法及び基材

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：荒船博司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-170015
公開番号（公開出願番号）：特開2003-306769
出願日： 2002年06月11日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：

【要約】【課題】コストが低く、製膜速度が大きく、様々な種類の金属について良質の膜を得ることができる製膜方法を提供する。【解決手段】大気圧または大気圧近傍の圧力の下で、対向する電極間に電圧を印加し放電させることにより、反応性ガスをプラズマ状態とし、前記プラズマ状態の反応性ガスにより基材の表面に製膜するための製膜方法であって、前記反応性ガスは金属原子を含む化合物からなると共に、プラズマ雰囲気中に還元性を有する還元ガスを供給することにより前記基材の表面に金属膜を形成する。具体的には、前記基材の表面に、前記反応性ガス由来の金属酸化膜を形成した後に、還元ガスを供給することで、金属酸化膜を還元して金属膜を形成することが好ましく、金属酸化膜の形成と還元ガスによる還元処理とを複数回繰り返してもよい。

請求項（抜粋）：

大気圧または大気圧近傍の圧力の下で、対向する電極間に電圧を印加し放電させることにより、反応性ガスをプラズマ状態とし、前記プラズマ状態の反応性ガスにより基材の表面に製膜するための製膜方法であって、前記反応性ガスは金属原子を含む化合物からなると共に、プラズマ雰囲気中に還元性を有する還元ガスを供給することにより前記基材の表面に金属膜を形成することを特徴とする製膜方法。

IPC (2件)：

C23C 16/06 , H05H 1/46

FI (2件)：

C23C 16/06 , H05H 1/46 M

Fターム (16件)：

4K030AA11 , 4K030BA01 , 4K030BA11 , 4K030BA16 , 4K030BA18 , 4K030BA21 , 4K030BA42 , 4K030CA07 , 4K030CA17 , 4K030DA08 , 4K030FA03 , 4K030HA01 , 4K030JA09 , 4K030JA16 , 4K030JA18 , 4K030LA01

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開昭63-203772
透明導電膜の製造方法および透明導電膜
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-110800 出願人：コニカ株式会社
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-281710 出願人：松下電工株式会社

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