特許
J-GLOBAL ID：200903034875808742
パターニング方法およびこれを用いた光学部品の製造方法ならびに前記パターニング方法を用いた液体噴射記録ヘッドの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-077202
公開番号（公開出願番号）：特開平8-248619
出願日： 1995年03月08日
公開日（公表日）： 1996年09月27日
要約：
【要約】【目的】 マスクの反射膜等のパターニング工程を簡略化する。【構成】 Si基板10上に、QスイッチYAGレーザの2倍高調波のレーザパルスを吸収する赤色染料インクでネガ型パターン11を印刷し、その上からSi基板10の表面全体に反射膜12を積層する。これに、前記レーザパルスを照射してネガ型パターン11を加熱、分解することでその上の反射膜12を除去し、パターン開口12aを形成する。
請求項（抜粋）：
基板の所定の部位にネガ型パターンを設けその上から前記基板に被覆膜を被着させて積層体を得る工程と、得られた積層体にその被覆膜を透過してネガ型パターンに吸収される光を照射する工程を有するパターニング方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 L
, B41J 3/04 103 H
