特許
J-GLOBAL ID：200903034876039629
真空圧力制御システムおよびこのシステムを備えた加熱装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
小川 信一
, 野口 賢照
, 斎下 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-360092
公開番号（公開出願番号）：特開2006-167981
出願日： 2004年12月13日
公開日（公表日）： 2006年06月29日
要約：
【課題】架台とバックフィルムとによって形成される空間を複数、同時に真空状態にする際に、バックフィルムの破損による影響を最小限に抑えることができる簡便で、低コストの真空圧力制御システムおよびこのシステムを備えた加熱装置を提供する。【解決手段】圧力センサ9がバックフィルム内部空間Sの真空状態が開放された所定圧力以下の圧力を検知すると、制御装置7が複数のそれぞれの分岐吸気管4に設けられた開閉弁6の開閉を制御する開放箇所特定ステップをすべてのバックフィルム内部空間Sに対して実施して、真空状態が開放されている架台11を特定するとともに、この特定した架台11に接続している分岐吸気管4に設けられた開閉弁6のみを閉弁し、それ以外の開閉弁6を開弁した状態にする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
真空ポンプと、該真空ポンプに接続されるヘッダー管と、該ヘッダー管から分岐する複数の分岐吸気管のそれぞれに連通するように接続されて、バックフィルムとともに真空状態の空間を形成する複数の架台とを備え、複数のそれぞれの架台に形成される前記空間の圧力を検知する圧力センサを設けるとともに、前記複数のそれぞれの分岐吸気管に開閉弁を設け、前記圧力センサが検知した圧力に基づいて、前記開閉弁の開閉を制御して真空状態が開放されている架台を特定するとともに、該特定した架台に接続している分岐吸気管に設けられた開閉弁のみを閉弁し、それ以外の開閉弁を開弁した状態にすることを特徴とする真空圧力制御システム。
IPC (3件)：
B29C 43/56
, B29C 43/12
, B29C 65/02
B29C43/56
, B29C43/12
, B29C65/02
4F204AG01
, 4F204AG03
, 4F204AM28
, 4F204AP02
, 4F204AR02
, 4F204FA13
, 4F204FB01
, 4F204FB11
, 4F204FQ37
, 4F211AG18
, 4F211AP02
, 4F211AR02
, 4F211TA03
, 4F211TC01
, 4F211TD05
, 4F211TD11
, 4F211TN24
, 4F211TN28
, 4F211TN44
, 4F211TQ07
