特許
J-GLOBAL ID：200903034886533761
パタン転写方法及び固体素子の製造方法ならびにこれを用いた固体素子
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-282889
公開番号（公開出願番号）：特開平9-129537
出願日： 1995年10月31日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：
【要約】【課題】パタン転写時に生じるステージ移動誤差に起因した重ね合わせ精度の劣化を抑える。【解決手段】第1のパタン転写時のステージ駆動結果をモニタし、転写パタン位置誤差に関する基板ステージとマスクステージの同期駆動誤差等の情報を記憶し、第2の回路パタンを重ね合わせ転写するとき、上記の記憶情報をもとにステージ駆動位置を補正しながらマスクパタンを転写する。
請求項（抜粋）：
露光光で所定形状の照明領域を照明し、第1の回路パタンが形成されたマスクを走査することにより上記所定形状の照明領域をマスク上を走査させるとともに、上記所定形状の照明領域を投影光学系を用いて基板上に投影した所定形状の露光領域に対して上記マスクと同期して基板を走査することにより上記第1の回路パタンを上記基板上に露光する際に、該露光で用いる露光装置が上記マスクを載置したマスクステージの走査位置を検出する第1の検出系と上記基板を載置した試料台の走査位置を検出する第2の検出系とを備え、上記第1の検出系を用いてマスクステージの走査位置を検出するとともに上記第2の検出系を用いて試料台の走査位置を検出する工程と、検出したマスクステージの走査位置及び試料台の走査位置に関する情報から第1の回路パタンの転写位置に関する情報を求める工程と、該基板上の第1の回路パタンに対して第2の回路パタンを位置合わせして重ね合わせ転写する際に上記第1の回路パタンの転写位置に関する情報を用いて上記第1の回路パタンとの重ね合わせ誤差を小さくするように該第2の回路パタンの転写位置を補正して第2の回路パタンを重ね合わせ転写する工程を含むことを特徴とするパタン転写方法。
FI (3件)：
H01L 21/30 518
, H01L 21/30 525 X
, H01L 21/30 541 D
