特許
J-GLOBAL ID:200903034909865538
放射線画像変換パネルの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大井 正彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-210681
公開番号(公開出願番号):特開平6-034800
出願日: 1992年07月16日
公開日(公表日): 1994年02月10日
要約:
【要約】【目的】 画像の鮮鋭性が高い放射線画像変換パネルを製造することができる方法を提供することにある。【構成】 本発明の製造方法は、基板上に形成された輝尽性蛍光体層またはその母体層に、熱処理することによって酸化物またはフッ化物よりなる被膜を形成する被膜形成用塗布液を塗布して乾燥させる工程を有することを特徴とする。
請求項(抜粋):
輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルの製造方法において、基板上に気相堆積法により形成された輝尽性蛍光体層またはその母体層に、熱処理することによって酸化物またはフッ化物よりなる被膜を形成する被膜形成用塗布液を塗布して乾燥させる工程を有することを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。
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