特許
J-GLOBAL ID：200903034910616045
表面検査方法、表面検査装置、光ビーム発生体及びプリズム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-117931
公開番号（公開出願番号）：特開平9-304285
出願日： 1996年05月13日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：
【要約】【課題】 被検査体の孔の傾き及び表面を高速度に正確に検査する表面検査方法、表面検査装置、光ビーム発生体及びプリズムを提供すること。【解決手段】 発光体6と、発光体6の出射光が入射され、放射状に多数の光ビームを出射する光ビーム発生体5と、光ビーム発生体5の出射光が被検査体3に照射されて、反射した反射光が入射するコーンプリズム2と、コーンプリズム2からの出射光を受光するCCD カメラ1とを備えて構成する。
請求項（抜粋）：
被検査体の表面を撮影して光学的に検査する方法において、発光体と、該発光体の出射光が入射され多数の光ビームを出射する光ビーム発生体と、該光ビーム発生体から出射した光ビームを前記被検査体へ照射して、その反射光を入射すべき環状のプリズムと、該プリズムからの出射光を入射すべき撮影手段とを用い、該撮影手段が撮影した画像により被検査体の表面を検査することを特徴とする表面検査方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 21/88 A
, G03B 15/00 T
