特許

J-GLOBAL ID：200903034913292941

スポット切り出し装置

発明者： 渡辺 進 ,  甲田 公良 ,  秋葉 恒雄
出願人/特許権者： 株式会社日立サイエンスシステムズ
代理人 (1件)： 春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-300769
公開番号（公開出願番号）：特開2005-069905
出願日： 2003年08月26日
公開日（公表日）： 2005年03月17日
要約：

【課題】試料間の混合を防止することができ異なるスポット形状に合った切り出しを行え、かつハイスループット処理可能なスポット切り出し装置を実現する。【解決手段】ノズル6は、切り出すスポットに合わせて、その断面形状を変更することができる。ノズル6からは、窒素ガス等の気体が電気泳動ゲル3のスポット31の周囲に噴射される。このノズル6からのガス噴射により、スポット312が切り出される。切り出すスポット31に接触することなく、スポット31を切り出すことができ、ノズル6に試料が付着することによる試料混合の発生を大幅に低減することができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

試料を電気泳動して得られたゲルを可視染色または蛍光染色して形成されたスポットを上記ゲルから切り出すスポット切り出し装置であって、 気体がその内部を通過可能なノズルと、 上記ノズルに圧縮気体を供給する圧縮気体供給手段と、 を備え、上記ノズルから噴射される気体により、上記スポットを選択的に切り取り分取することを特徴とするスポット切り出し装置。

IPC (2件)：

G01N27/447 ,  G01N27/62

FI (9件)：

G01N27/26 315A ,  G01N27/62 D ,  G01N27/62 F ,  G01N27/62 V ,  G01N27/26 315G ,  G01N27/26 315H ,  G01N27/26 315E ,  G01N27/26 315C ,  G01N27/26 301A