特許
J-GLOBAL ID：200903034922710896
回転殺菌・滅菌装置における回転体の支持構造
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
江原 省吾 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-087556
公開番号（公開出願番号）：特開平11-276556
出願日： 1998年03月31日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：
【要約】【課題】 矯正機構を別設することなく、比較的簡単な構成で回転体の軸方向の移動を安定回転範囲内に自動的に修正制御させることができる回転殺菌・滅菌装置における回転体の支持構造を提供すること。【解決手段】 密閉容器1と、回転体2の外周面の複数箇所に接触して回転体2を密閉容器1内で回転可能に支持する複数個の支持ローラ3と、回転体2の駆動手段4とを備えた回転殺菌・滅菌装置において、回転体2の外周面に、支持ローラ3に接触する少なくとも2つの環状接触部6、7を具備させ、この環状接触部6、7と支持ローラ3、3との接触部の形状を、接触点p、qが軸方向に移動するときの当該接触点p、qにおける周囲長(直径)が連続的に増加又は減少変化する如き形状とし、かつ、該周囲長(直径)の変化の状態が前記2つの環状接触部6、7で互いに逆関係となるような形状とした。
請求項（抜粋）：
密閉容器と、密閉容器内に配置される回転体と、回転体の外周面の複数箇所に接触して回転体を密閉容器内で回転可能に支持する複数個の支持ローラと、回転体の駆動手段とを備えた回転殺菌・滅菌装置において、回転体の外周面に、支持ローラに接触する少なくとも2つの環状接触部を具備させ、該環状接触部と支持ローラとの接触部の形状を、接触点が軸方向に移動するときの当該接触点における周囲長(直径)が連続的に増加又は減少変化する如き形状とし、かつ、該周囲長(直径)の変化の状態が前記2つの環状接触部で互いに逆関係となるような形状としたことを特徴とする回転殺菌・滅菌装置における回転体の支持構造。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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