特許
J-GLOBAL ID：200903034928820650

X線縮小露光装置およびこれを利用したデバイス製造方法

発明者：
寺島 茂

寺島 茂 について

, 
塚本 雅美

塚本 雅美 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-068226
公開番号（公開出願番号）：特開平9-330878
出願日： 1997年03月21日
公開日（公表日）： 1997年12月22日
要約：
【要約】【課題】 大口径のウェハを用いた場合であっても、マスクへの照明光が遮られない配置をコンパクトな構成で達成する。【解決手段】 互いに対向配置されたX線マスク13とウェハ7との間には、X線源2からのX線ビーム12をX線マスク13の手前で反射してX線マスク13に入射させる折り曲げミラー11が配置される。X線マスク13で反射されたX線ビーム12は、縮小投影光学系6を介してウェハ7に縮小投影される。
請求項（抜粋）：
X線源から放射されたX線で照明された反射型のマスクのパターンを、前記マスクに対向配置されたウェハに縮小投影するX線縮小投影光学系と、前記マスクと前記ウェハとの間に配置され、前記X線源からのX線を、前記マスクの手前で反射して前記マスクに導く折り曲げミラーとを有するX線縮小露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02
FI (3件)：
H01L 21/30 531 A ,  G03F 7/20 503 ,  G21K 5/02 X
引用特許：
審査官引用 (7件)
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