膜形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金本哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-123834
公開番号（公開出願番号）：特開2001-307991
出願日： 2000年04月25日
公開日（公表日）： 2001年11月02日
要約：

【要約】【課題】ウェハ上に形成される塗布膜の薄膜化を実現する膜形成方法を提供する。【解決手段】ウェハWをスピンチャック60により回転させ,溶剤蒸気吐出ノズル71からウェハW周辺部にレジスト液の溶剤蒸気を供給する。そして,低速度で回転されたウェハW中心部に吐出ノズル70からレジスト液が供給される。その後,ウェハWの回転速度が加速され,先に供給されたレジスト液がウェハW全面に拡散される。そして,再び溶剤蒸気吐出ノズル71からウェハW全面への前記溶剤蒸気の供給が開始され,さらにウェハWを所定時間回転させることによって,レジスト液の膜の薄膜化が図られる。

請求項（抜粋）：

基板上の中心に供給された塗布液を,前記基板を回転させることによって拡散させて基板上に塗布液の膜を形成する膜形成方法であって,前記基板を回転させた状態で,前記基板上の拡散された前記塗布液に当該塗布液の溶剤蒸気を供給し,前記基板上に形成される塗布液の膜を薄膜化する工程を有することを特徴とする,膜形成方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , B05D 1/40 , B05D 7/00 , G03F 7/16 502

FI (4件)：

B05D 1/40 A , B05D 7/00 H , G03F 7/16 502 , H01L 21/30 564 D

Fターム (6件)：

2H025AB16 , 2H025EA05 , 4D075AC64 , 4D075DC22 , 5F046JA09 , 5F046JA13

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭58-206124
特開平2-133916
特開昭64-058375

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