特許

J-GLOBAL ID：200903034942755705

投影露光装置

発明者： 篠崎 忠明 ,  戸口 学 ,  村野 和夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 田辺 恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-104922
公開番号（公開出願番号）：特開平10-050605
出願日： 1997年04月22日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：

【要約】【課題】本発明は、マスクの基板に対する直交度又は変動量の変化による露光不良を防止することができる投影露光装置を実現しようとするものである。【解決手段】マスク50のパターンPNが存在する領域の周囲に複数のマークM1〜M8を設け、基板11面と共役な面上に投影された複数のマークM1〜M8の像の位置をそれぞれ検出し、当該検出された複数のマークM1〜M8の像の位置と、当該複数のマークM1〜M8が投影光学系9によつて投影されるべき設計上の位置とのずれ量に基づいて、マスク50の基板11に対する2次元方向の直交度又は変動量のいずれかを求めた後、当該求めた直交度又は変動量を補正するようにしたことにより、マスク50の基板11に対する直交度又は変動量の変化による露光不良を防止し得る投影露光装置30を実現することができる。

請求項（抜粋）：

マスク上のパターンを所定の結像特性を有する投影光学系を介して、二軸方向に移動するステージに載置された基板の所定領域に投影する投影露光装置において、前記マスクの前記パターンが存在する領域の周囲に複数のマークを設け、前記基板面と共役な面上に投影された前記複数のマークの像の位置をそれぞれ検出する位置検出手段と、前記位置検出手段によつて検出された前記複数のマークの像の位置と、当該複数のマークが前記投影光学系によつて投影されるべき設計上の位置とのずれ量に基づいて、前記ステージの直交度又は変動量のいずれかを求める演算手段と、前記演算手段によつて求めた前記直交度又は変動量を補正する補正手段とを具えることを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00

FI (9件)：

H01L 21/30 525 A ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 516 B ,  H01L 21/30 522 A ,  H01L 21/30 522 Z ,  H01L 21/30 525 D ,  H01L 21/30 525 G ,  H01L 21/30 525 N ,  H01L 21/30 525 X