特許
J-GLOBAL ID：200903034945596985
アブレーション加工方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 敬四郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-301425
公開番号（公開出願番号）：特開平9-141480
出願日： 1995年11月20日
公開日（公表日）： 1997年06月03日
要約：
【要約】【課題】 レーザ加工時に発生したデブリの付着を防止し、良好な加工表面を得ることのできるレーザ加工技術を提供する。【解決手段】 アブレーション加工すべき被加工表面を有する対象物を準備する工程と、前記被加工表面に液体を接触させる工程と、前記液体を通して前記被加工表面にレーザ光を照射し、アブレーション加工する工程とを含む。
請求項（抜粋）：
アブレーション加工すべき被加工表面を有する対象物を準備する工程と、前記被加工表面に液体を接触させる工程と、前記液体を通して前記被加工表面にレーザ光を照射し、アブレーション加工する工程とを含むアブレーション加工方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B23K 26/12
, B23K 26/00 D
