特許

J-GLOBAL ID：200903034951598892

ウェーハ処理装置の処理室の中でサセプタを支持し回転させるためのシステム

発明者： ヴィットーリオ ポゼッティ ,  ダニーロ クリッパ ,  フランコ プレティ
出願人/特許権者： エルピーイー ソシエタ ペル アチオニ
代理人 (2件)： 谷 義一 ,  阿部 和夫
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-522180
公開番号（公開出願番号）：特表2009-502039
出願日： 2005年07月21日
公開日（公表日）： 2009年01月22日
要約：

本発明は、ウェーハ処理装置の処理室の中でサセプタを支持し、回転させるためシステムであって、処理室の中に配置され、サセプタ(3)を支持することができる支持部材(2)と、持上げガスの流れによって支持部材(2)を持ち上げることができる手段(4)と、回転ガスの流れによって支持部材(2)を回転させることができる手段(5)とを備えるシステムに関する。

請求項（抜粋）：

ウェーハ処理装置の処理室の中でサセプタを支持し、回転させるためのシステムであって、 前記処理室の中に配置され、サセプタ(3)を支持することができる支持部材(2)と、 持上げガスの流れによって前記支持部材(2)を持ち上げることができる手段(4)と、 回転ガスの流れによって前記支持部材(2)を回転させることができる手段(5)と、 を備えたことを特徴とするシステム。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/458 ,  C30B 25/12

FI (3件)：

H01L21/205 ,  C23C16/458 ,  C30B25/12

Fターム (31件)：

4G077AA03 ,  4G077BA04 ,  4G077BE08 ,  4G077BE15 ,  4G077DB01 ,  4G077EG14 ,  4G077HA12 ,  4G077TA12 ,  4G077TF06 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030GA02 ,  4K030GA06 ,  4K030LA15 ,  5F045AA03 ,  5F045AB02 ,  5F045AB06 ,  5F045AB14 ,  5F045AD12 ,  5F045AD18 ,  5F045BB08 ,  5F045DP15 ,  5F045DP27 ,  5F045EB02 ,  5F045EE11 ,  5F045EF01 ,  5F045EF05 ,  5F045EF09 ,  5F045EM02 ,  5F045EM09 ,  5F045EM10