特許

J-GLOBAL ID：200903034955894909

イオン発生方法およびイオン照射方法

発明者： 村越 篤 ,  須黒 恭一
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-121692
公開番号（公開出願番号）：特開2000-311619
出願日： 1999年04月28日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：

【要約】【課題】Inイオンを安定かつ安全に発生させること。【解決手段】Inイオンのイオン源材料として、InIの固体を使用する。このInIをオーブン27で加熱して、InIの蒸気を生成する。この蒸気を放電させ、Inイオンを発生させる。

請求項（抜粋）：

発生させるべき所望のイオンの元素とヨウ素との化合物からなるイオン源材料を加熱することによって、前記化合物の蒸気を生成する工程と、前記蒸気を放電させることによって、前記イオンを発生させる工程とを有することを特徴とするイオン発生方法。

IPC (6件)：

H01J 27/02 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/317 ,  H01L 21/265 ,  C23C 14/48 ,  H01J 27/08

FI (6件)：

H01J 27/02 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/317 Z ,  C23C 14/48 Z ,  H01J 27/08 ,  H01L 21/265 603 A

Fターム (12件)：

4K029BA02 ,  4K029BA03 ,  4K029BA14 ,  4K029BA17 ,  4K029BA32 ,  4K029BA33 ,  4K029CA10 ,  4K029DA04 ,  5C030DD05 ,  5C030DE06 ,  5C030DG09 ,  5C034CC01

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平3-013576
  
• 特開平3-013576