特許
J-GLOBAL ID：200903034967642697
走査型投影露光方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-021455
公開番号（公開出願番号）：特開平8-222495
出願日： 1995年02月09日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：
【要約】【目的】 走査露光方式でレチクルのパターンを感光基板上に露光する際に、投影光学系の投影像自体に非等方的な歪みがある場合でも、最終的に感光基板上に露光される像の解像度が劣化しないようにする。【構成】 投影光学系のスリット状の投影像が投影像42Aのように角度γだけ傾斜した平行四辺形状に歪んでいるときには、レチクルと感光基板との走査方向を角度γだけ傾けて走査を行う。そのスリット状の投影像が投影像42Bのように走査方向に倍率誤差βを有する長方形状に歪んでいるときには、レチクルと感光基板との走査速度比を(1+β)に変える。
請求項（抜粋）：
マスク上の転写用のパターンの像を感光性の基板上に投影する投影光学系に対して、該投影光学系の光軸を横切る所定の方向に前記マスクを走査するのと同期して、前記所定の方向に対応する方向に前記基板を走査することにより、前記マスクのパターンの像を逐次前記基板上に転写する走査型投影露光方法において、前記投影光学系による投影像の歪みの内の非等方成分値に合わせて、走査露光中に前記基板上に転写される前記マスクのパターンの像に歪みを与えることを特徴とする走査型投影露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
H01L 21/30 518
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 515 E
, H01L 21/30 515 F
