排気ガス浄化方法及び排気ガス浄化システム

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：小川信一 , 野口賢照 , 斎下和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-135429
公開番号（公開出願番号）：特開2004-339971
出願日： 2003年05月14日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：

【課題】連続再生型DPFにおいて、炭化水素を触媒付きDPFに供給することにより、この炭化水素の触媒による低温酸化反応を利用して、低温の排気温度でもPM再生燃焼を行うことができる排気ガス浄化方法等及び排気ガス浄化システムを提供する。【解決手段】内燃機関Eの排気通路2に設けた触媒付きDPF3Abの上流側に炭化水素Fを添加するための炭化水素添加手段41,42,43を具備し、前記炭化水素添加手段41,42,43により添加された炭化水素FがPMと共に前記触媒付きDPF3Abに吸着することが可能な温度領域で炭化水素Fの添加を行い、前記触媒付きDPF3Abに吸着された炭化水素Fの酸化反応により前記触媒付きDPF3Ab上のPMを燃焼除去する。【選択図】図7

請求項（抜粋）：

内燃機関の排気通路に設けた触媒付きDPFに捕集されるPMを燃焼除去する方法であって、前記触媒付きDPFの上流側に炭化水素を添加するための炭化水素添加手段を具備し、前記炭化水素添加手段により添加された炭化水素がPMと共に前記触媒付きDPFに吸着することが可能な温度領域で炭化水素の添加を行い、前記触媒付きDPFに吸着された炭化水素の酸化反応により前記触媒付きDPF上のPMを燃焼除去することを特徴とする排気ガス浄化方法。

IPC (5件)：

F01N3/02 , B01D53/94 , F01N3/18 , F01N3/24 , F01N3/36

FI (7件)：

F01N3/02 321B , F01N3/02 321A , F01N3/18 B , F01N3/24 E , F01N3/24 R , F01N3/36 B , B01D53/36 103C

Fターム (85件)：

3G090AA03 , 3G090BA01 , 3G090CA01 , 3G090DA04 , 3G090DA09 , 3G090DA10 , 3G090DA12 , 3G090DA14 , 3G090DA18 , 3G090DA19 , 3G090DA20 , 3G090EA02 , 3G091AA02 , 3G091AA18 , 3G091AA28 , 3G091AB02 , 3G091AB13 , 3G091BA00 , 3G091BA04 , 3G091BA15 , 3G091BA19 , 3G091BA31 , 3G091BA32 , 3G091BA38 , 3G091CA01 , 3G091CA18 , 3G091CA21 , 3G091CB02 , 3G091CB08 , 3G091CB09 , 3G091DA01 , 3G091DA02 , 3G091DA04 , 3G091DB06 , 3G091DB10 , 3G091EA01 , 3G091EA03 , 3G091EA07 , 3G091EA16 , 3G091EA17 , 3G091EA26 , 3G091EA30 , 3G091EA32 , 3G091EA39 , 3G091EA40 , 3G091FC02 , 3G091GA06 , 3G091GA20 , 3G091GA24 , 3G091GB01X , 3G091GB04W , 3G091GB06W , 3G091GB10W , 3G091GB10X , 3G091GB16X , 3G091GB17X , 3G091HA08 , 3G091HA14 , 3G091HA15 , 3G091HA36 , 3G091HA37 , 3G091HA42 , 3G091HA47 , 4D048AA18 , 4D048AB01 , 4D048AC02 , 4D048BA19X , 4D048BA30X , 4D048BA41X , 4D048BB02 , 4D048BB14 , 4D048BD01 , 4D048CC61 , 4D048DA01 , 4D048DA02 , 4D048DA03 , 4D048DA06 , 4D048DA10 , 4D048DA13 , 4D058JA32 , 4D058KB12 , 4D058MA44 , 4D058MA53 , 4D058MA54 , 4D058SA08

引用特許：

審査官引用 (2件)

連続再生型ディーゼルパティキュレートフィルタシステムとその再生制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-074297 出願人：いすゞ自動車株式会社
排気ガス浄化システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-278774 出願人：イビデン株式会社

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