特許

J-GLOBAL ID：200903034977455763

一酸化炭素除去装置

発明者： 阿部 光高
出願人/特許権者： 日産自動車株式会社
代理人 (1件)： 後藤 政喜 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-164249
公開番号（公開出願番号）：特開2002-356302
出願日： 2001年05月31日
公開日（公表日）： 2002年12月13日
要約：

【要約】【課題】一酸化炭素除去装置において、一酸化炭素の除去の場所による偏りを低減する。【解決手段】一酸化炭素を含む水素リッチガス流の流通路となるケース2に、一酸化炭素を酸化する選択酸化触媒が充填された触媒層3と、触媒層3より水素リッチガス流の上流側に設けられ水素リッチガス流に酸化剤を導入する複数の孔4を有する複数のパイプ5が収容される。パイプ5の断面を扁平形状に形成し、その扁平形状の長軸が水素リッチガスの流れ方向に対してある傾きがあるように設置する。これにより、攪拌手段を新たに加えることなく水素リッチガスと酸化剤の攪拌を行うことができ、装置を大型化することなく触媒層における一酸化炭素除去を均一に行える。

請求項（抜粋）：

一酸化炭素を含む水素リッチガスの流通路であるケースと、前記ケースに収容され、酸素の存在下で水素に優先して一酸化炭素を酸化する選択酸化触媒が充填された触媒層と前記ケース内で前記触媒層より前記水素リッチガス流の上流側に設けられ、前記水素リッチガスに酸化剤を導入する複数の孔を有する複数のパイプと、を備えた一酸化炭素除去装置において、前記パイプの断面を扁平形状に形成し、前記扁平形状の長軸の方向が前記水素リッチガスの流れに対してある傾きを持つように設置したことを特徴とする一酸化炭素除去装置。

IPC (4件)：

C01B 3/32 ,  C01B 3/38 ,  H01M 8/06 ,  H01M 8/10

FI (4件)：

C01B 3/32 A ,  C01B 3/38 ,  H01M 8/06 G ,  H01M 8/10

Fターム (11件)：

4G040EA02 ,  4G040EA03 ,  4G040EA06 ,  4G040EB31 ,  4G040EB46 ,  5H026AA06 ,  5H027AA06 ,  5H027BA01 ,  5H027BA16 ,  5H027KK31 ,  5H027MM01