特許

J-GLOBAL ID：200903034995496558

形状測定方法、形状測定システム及び形状測定装置

発明者： 近藤 拓也
出願人/特許権者： サンクス株式会社
代理人 (2件)： 後呂 和男 ,  ▲高▼木 芳之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-287817
公開番号（公開出願番号）：特開2007-101215
出願日： 2005年09月30日
公開日（公表日）： 2007年04月19日
要約：

【課題】測定精度の低下を抑えつつ測定対象物の形状測定を行うことが可能な形状測定方法、形状測定システム及び形状測定装置を提供する。【解決手段】予めサンプリングモードを実行して、XYステージ14を一定速度で駆動した場合における受光面19aでの経時的な最大受光量変化情報を取得する。そして、測定モード実行時には、その最大受光量変化に基づきXYステージ14の移動速度を変更しつつ、照射スポットQの各移動位置におけるワークWの距離測定を行う。サンプリングモード実行時において受光量変化が大きかった照射スポットQの各移動位置では、XYステージ14の移動速度を下げてフィーバック制御の追従遅れによる測定精度の低下を抑制する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

投光部からの光を測定対象物に照射し、その反射光を前記測定対象物までの距離に応じて変化する受光面上の位置で検出可能な位置検出部に受光させ、前記測定対象物上における前記投光部からの光の照射スポットを測定範囲内で移動させつつ、各移動位置において前記位置検出部で順次検出される前記受光面での受光位置に基づき前記測定対象物の形状測定を行う形状測定方法において、 前記投光部の投光量を一定に保ちつつ前記測定対象物上における前記照射スポットを前記測定範囲内で移動させたときの前記位置検出部での受光量変化をサンプリングする第1ステップと、 前記受光面での受光量をフィードバックして当該受光量を一定とするための前記投光部の投光量制御を行いつつ、前記第1ステップでサンプリングされた受光量変化に基づき前記照射スポットの移動速度を前記第1ステップでの移動速度に対して変更しつつ前記照射スポットを前記測定範囲内で移動させて前記形状測定を行う第2ステップとを含むことを特徴とする形状測定方法。

IPC (1件)：

G01B 11/24

FI (1件)：

G01B11/24 Z

Fターム (26件)：

2F065AA06 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065DD00 ,  2F065FF01 ,  2F065FF09 ,  2F065FF41 ,  2F065GG06 ,  2F065HH04 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL04 ,  2F065MM03 ,  2F065NN02 ,  2F065PP12 ,  2F065PP22 ,  2F065QQ01 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ42 ,  2F065UU05

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 光学式変位計
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-221835   出願人：株式会社キーエンス