特許
J-GLOBAL ID:200903034996934982
描画装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
上柳 雅誉
, 須澤 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-111872
公開番号(公開出願番号):特開2007-283580
出願日: 2006年04月14日
公開日(公表日): 2007年11月01日
要約:
【課題】装置構成に対するパフォーマンスに優れたライン型の描画装置を提供すること。【解決手段】ヘッド部6は、プラテン5と対向するように複数のヘッドモジュール10A〜10Hを備えている。ヘッドモジュール10A〜10Hは、リードスクリュー等で構成されたヘッド編制手段の駆動により、第1の編制状態(図2(a))または第2の編制状態(図2(b))のいずれかの状態をとることができ、また、編制状態に応じたマーキング制御により、第2の編制状態において高解像度の描画を行う。【選択図】図2
請求項(抜粋):
描画媒体に対する走査によって所定のピッチでマーキングが可能な第1および第2のヘッドモジュールが配置されてなるライン型の描画装置であって、
前記第1および第2のヘッドモジュールが互いにマーキングの可能領域を補完するように配置される第1の編制状態と、前記第1および第2のヘッドモジュールが互いにマーキングの可能領域を重複させるように配置される第2の編制状態と、をとり得るように、前記第1および第2のヘッドモジュールの配置編制を行うヘッド編制手段を備えることを特徴とする描画装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (7件):
2C056EB07
, 2C056EB40
, 2C056EC66
, 2C056EC78
, 2C056EC80
, 2C056FA10
, 2C056FA13
引用特許:
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