特許

J-GLOBAL ID：200903035000383850

基板処理装置

発明者： 小笠原 光雄 ,  谷口 竹志
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-017520
公開番号（公開出願番号）：特開平11-216433
出願日： 1998年01月29日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：

【要約】【課題】 水平面に対して基板を傾斜させた状態で搬送しながら基板に対して処理液を供給して所定の処理を施す装置において、より効率良く基板を処理する。【解決手段】 受入れ部12に搬入された基板Wを搬送手段18により処理装置本体14の第1剥離槽14a、第2剥離槽14b、水洗槽14c及び乾燥槽14dにわたって搬送しつつ受渡し部16に送り出すように基板処理装置10を構成した。第2剥離槽14bには、搬送手段18として姿勢変更機構19を設け、水平状態で搬送されてきた基板Wを姿勢変更機構19により傾斜姿勢に変更させ、以降この傾斜姿勢で搬送するようにした。また、姿勢変更機構19による基板Wの姿勢変更中に薬液供給ノズル40a,40bにより基板Wに薬液を吹き付けるようにした。

請求項（抜粋）：

水平面に対して基板を傾斜あるいは起立させる姿勢変更手段と、基板の表面に向けて処理液を供給して該基板に対して所定の基板処理を施す処理液供給手段とを備え、上記姿勢変更手段は、上記処理液供給手段による処理液の被供給域内に配置されるとともに、上記処理液供給手段による処理液供給中に基板姿勢を変更するように構成されていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

B08B 3/02 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 651

FI (3件)：

B08B 3/02 B ,  H01L 21/304 643 B ,  H01L 21/304 651 G