特許

J-GLOBAL ID：200903035004083028

マスク、電気光学装置及び有機EL装置の製造方法、有機EL装置の製造装置並びに電子機器

発明者： 廣嶋 由希子
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-034702
公開番号（公開出願番号）：特開2003-231961
出願日： 2002年02月12日
公開日（公表日）： 2003年08月19日
要約：

【要約】【課題】 発光層パターン等を形成する行程に使用されるマスクであって、パターンの精度が高く、アラインメントの容易なマスクを提供する。さらにこのマスクを使用したEL装置や電気光学装置の製造方法を提供する。【解決手段】 形成する全パターンに対応する開口部を有する第1のマスク部材と、一部のパターンに対応する開口部を有する第2のマスク部材からなる、2枚のマスク部材の積層体により構成したマスクとする。第1のマスク部材を固定してパターンのアラインメントを行い、必要に応じて第2のマスク部材のみを移動させて別のパターンを形成する。

請求項（抜粋）：

成膜するパターンに対応させた開口部を有し、被成膜面にパターンを形成するために使用されるマスクであって、全パターンに対応する開口部を有する第1のマスク部材と、一部のパターンに対応する開口部を有する第2のマスク部材からなり、2枚のマスク部材の積層体により構成されてなることを特徴とするマスク。

IPC (5件)：

C23C 14/04 ,  C23C 14/24 ,  H04N 5/70 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14

FI (5件)：

C23C 14/04 A ,  C23C 14/24 G ,  H04N 5/70 Z ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A

Fターム (15件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BB03 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03 ,  5C058AA12 ,  5C058AB06 ,  5C058BA35