特許

J-GLOBAL ID：200903035011816812

プロセスコントロール安定化装置

発明者： 大橋 邦夫 ,  木梨 洋 ,  徳山 満
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-009890
公開番号（公開出願番号）：特開平5-197248
出願日： 1992年01月23日
公開日（公表日）： 1993年08月06日
要約：

【要約】【構成】 CPU21は、表面電位センサー22および光学センサー23による各検出工程前に、駆動用モータの駆動を制御することで、メインチャージャーユニット7の放電ワイヤー7bを摺擦部材31により摺擦清掃する。【効果】 これにより、メインチャージャーユニット7の均一放電を確保した状態で、各センサー22・23での検出が行え、ひいては、正確な情報に基づく最適なプロセス制御が可能になる。

請求項（抜粋）：

帯電器の放電電極から生じる放電により感光体表面を帯電した後、この感光体表面を画像パターンに応じて露光することで形成された静電潜像をトナー像として顕像化する画像形成装置に供せられ、電位検出手段で検出された感光体の表面電位に基づいて、プロセス制御手段にて最適画像を得るように複写プロセスの制御を行うプロセスコントロール安定化装置において、上記帯電器には、その放電電極を清掃する電極清掃手段が設けられ、また、プロセス制御手段は、電位検出手段による表面電位の検出工程前に、電極清掃手段を制御して帯電器の放電電極を清掃することを特徴とするプロセスコントロール安定化装置。

IPC (2件)：

G03G 15/00 303 ,  G03G 15/02 102

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-189031
  
• 特開昭62-177751
  
• 特開平3-007963
  
• 特開平2-012277