特許
J-GLOBAL ID:200903035014099860

二酸化チタン被膜の形成法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西 義之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-211519
公開番号(公開出願番号):特開2002-029748
出願日: 2000年07月12日
公開日(公表日): 2002年01月29日
要約:
【要約】【課題】 光触媒活性が高く、光触媒活性を長期間維持できる二酸化チタン被膜の形成法。【解決手段】 チタン化合物を含む流体を基体に接触させ、該チタン化合物の分解温度以上で分解せしめて基体表面に二酸化チタン被膜を形成する方法において、前記流体中に有機系または無機系のフッ素化合物を添加した二酸化チタン被膜の形成法。
請求項(抜粋):
チタン化合物を含む流体を基体に接触させ、該チタン化合物の分解温度以上で分解せしめて基体表面に二酸化チタン被膜を形成する方法において、前記流体中に有機系または無機系のフッ素化合物を添加したことを特徴とする二酸化チタン被膜の形成法。
IPC (2件):
C01G 23/04 ,  C03C 17/25
FI (2件):
C01G 23/04 C ,  C03C 17/25 A
Fターム (11件):
4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G059AA01 ,  4G059AA04 ,  4G059AA11 ,  4G059AC21 ,  4G059AC22 ,  4G059EA04 ,  4G059EB06
引用特許:
審査官引用 (3件)

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