特許

J-GLOBAL ID：200903035015936944

雰囲気熱処理方法及び雰囲気熱処理炉

発明者： 浅水 博 ,  丹野 義幸 ,  羽生 伸一 ,  芳賀 明義 ,  村木 博明
出願人/特許権者： 同和鉱業株式会社
代理人 (1件)： 澤木 誠一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-364786
公開番号（公開出願番号）：特開平11-181516
出願日： 1997年12月22日
公開日（公表日）： 1999年07月06日
要約：

【要約】【課題】 従来のバッチ炉ではエネルギーコストが高く、従来の連続炉ではスペースを大きく取る必要があった。【解決手段】 本発明の雰囲気熱処理炉においては、被処理品の搬入部と、予熱部と、浸炭部と、降温均熱部と、焼入油槽部と、搬出部とをこの順で並設し、搬入部と予熱部間、予熱部と浸炭部間、浸炭部と降温均熱部間及び降温均熱部と焼入油槽部間を夫々扉により開閉自在ならしめる。本発明の雰囲気熱処理方法においては上記雰囲気炉における上記浸炭部内を浸炭可能な一定温度に加熱し、カーボン雰囲気濃度を浸炭反応域と拡散反応域間で時間と共に正弦波状に変化せしめ、被加工品を所望量づつ上記搬入部、予熱部、浸炭部、降温均熱部、焼入油槽部及び搬出部に順次に移動せしめるようにする。

請求項（抜粋）：

被処理品の搬入部と、予熱部と、浸炭部と、降温均熱部と、焼入油槽部と、搬出部とをこの順で並設し、搬入部と予熱部間、予熱部と浸炭部間、浸炭部と降温均熱部間及び降温均熱部と焼入油槽部間を夫々扉により開閉自在ならしめた雰囲気炉における上記浸炭部内を浸炭可能な一定温度に加熱し、カーボン雰囲気濃度を浸炭反応域と拡散反応域間で時間と共に正弦波状に変化せしめ、被加工品を所望量づつ上記搬入部、予熱部、浸炭部、降温均熱部、焼入油槽部及び搬出部に順次に移動せしめるようにしたことを特徴とする雰囲気熱処理方法。

IPC (7件)：

C21D 1/76 ,  C21D 1/06 ,  C21D 1/62 ,  C21D 1/74 ,  C23C 8/20 ,  F27B 9/02 ,  F27B 9/10

FI (8件)：

C21D 1/76 M ,  C21D 1/06 A ,  C21D 1/62 ,  C21D 1/74 Z ,  C21D 1/74 U ,  C23C 8/20 ,  F27B 9/02 ,  F27B 9/10