特許
J-GLOBAL ID:200903035018784975
ガスベアリング基板装填機構
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
深見 久郎
, 森田 俊雄
, 仲村 義平
, 堀井 豊
, 野田 久登
, 酒井 將行
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-519595
公開番号(公開出願番号):特表2008-505041
出願日: 2005年07月07日
公開日(公表日): 2008年02月21日
要約:
真空またはほぼ真空の条件下で使用するための浮上装置は、ガス用の複数の噴射点(1)および隣接する吸引点(2)を有する浮上プレート(3)を含み、空気ベアリング(4)を作り出して、それにより薄いプレート状基板(5)を支持する。さらに別の実施例は、支持された基板用の搬送機構、および/または浮上プレートを傾ける傾斜機構を含む。
請求項(抜粋):
真空またはほぼ真空の条件下で使用するための浮上装置であって、ガス用の複数の噴射点(1)および隣接する吸引点(2)を有する浮上プレート(3)を含み、空気ベアリング(4)を作り出して、それにより薄いプレート状基板(5)を支持する、浮上装置。
IPC (3件):
B65G 49/07
, H01L 21/677
, B65G 51/03
FI (3件):
B65G49/07 K
, H01L21/68 A
, B65G51/03 A
Fターム (8件):
5F031CA05
, 5F031FA02
, 5F031GA63
, 5F031GA64
, 5F031MA28
, 5F031NA04
, 5F031NA05
, 5F031PA20
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