特許

J-GLOBAL ID：200903035019462696

平滑ガラス基板およびその製造方法

発明者： 中 島 昭 ,  小 松 通 郎
出願人/特許権者： 触媒化成工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-272944
公開番号（公開出願番号）：特開平5-105486
出願日： 1991年10月21日
公開日（公表日）： 1993年04月27日
要約：

【要約】【構成】 下記一般式(1)【化1】(ただし、R1 、R2 およびR3 は、それぞれ独立して水素原子または炭素原子数1〜8のアルキル基である。)で表わされる繰り返し単位を有するポリシラザンの1種または2種以上を含む塗布液から形成されたシリカ系被膜で、ガラス基板の表面が被覆されている平滑ガラス基板、および該平滑ガラス基板のシリカ系被膜上に透明導電膜が形成された透明電極基板を有する液晶表示装置。【効果】 上記のようなシリカ系被膜は、ボイド、ピンホール、クラック等がなく、緻密であり、アルカリパッシベーション膜としても優れている。このような被膜が形成された平滑ガラス基板は、平滑性に優れており、この平滑ガラス基板を用いて形成された透明電極基板を有する液晶表示装置は、表示画像に色むら濃度むらがほとんどない。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)【化1】(ただし、R1 、R2 およびR3 は、それぞれ独立して水素原子または炭素原子数1〜8のアルキル基である。)で表わされる繰り返し単位を有するポリシラザンの1種または2種以上を含む塗布液から形成されたシリカ系被膜で、ガラス基板の表面が被覆されていることを特徴とする平滑ガラス基板。

IPC (7件)：

C03C 17/30 ,  C03C 17/34 ,  C08G 77/62 NUM ,  C09D183/16 PMM ,  G02F 1/1333 500 ,  G09F 9/35 ,  H01B 5/14

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特表平3-500766
  
• 特開平1-169426
  
• 特開平4-132635
  
• 絶縁膜被着基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-209586   出願人：アルプス電気株式会社
• 表面改質ガラス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-193625   出願人：三菱電線工業株式会社