特許
J-GLOBAL ID：200903035034063455
磁気記録媒体の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-249756
公開番号（公開出願番号）：特開平6-103573
出願日： 1992年09月18日
公開日（公表日）： 1994年04月15日
要約：
【要約】【目的】 本発明は磁気ディスク装置に用いられる磁気記録媒体の製造方法、特に磁性記録層上に耐久性の良い保護膜を形成する方法に関し、磁性記録層に対するプラズマ重合膜からなる保護膜の密着強度を向上させて、その耐久性を高めることを目的とする。【構成】 磁性記録層12の表面にプラズマCVD法によりフェニル系炭化水素をモノマーとしたプラズマ重合膜からなる保護膜13を形成する磁気記録媒体の製造方法であって、前記磁性記録層12の表面にプラズマ重合膜からなる保護膜13を形成するに先立って、該磁性記録層12の表面を酸素プラズマにより処理した後、その表面に更にアルゴンプラズマによる処理、若しくは水素プラズマにより処理する工程を順次行うように構成とする。
請求項（抜粋）：
磁性記録層(12)の表面にプラズマCVD法によりフェニル系炭化水素をモノマーとしたプラズマ重合膜からなる保護膜(13)を形成する磁気記録媒体の製造方法であって、前記磁性記録層(12)の表面にプラズマ重合膜からなる保護膜(13)を形成するに先立って、該磁性記録層(12)の表面を酸素プラズマにより処理する工程、その表面をアルゴンプラズマ、若しくは水素プラズマにより処理する工程を順次行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2件)：
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