特許
J-GLOBAL ID:200903035038050129

材料内部の格子欠陥観察方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小倉 亘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-396865
公開番号(公開出願番号):特開2003-194718
出願日: 2001年12月27日
公開日(公表日): 2003年07月09日
要約:
【要約】【目的】 多光子励起でフォトルミネッセンスを発生させ、材料内部の三次元的な観察により半導体材料の内部格子欠陥を検出する。【構成】 試料Sのバンドギャップに対応する光よりも長波長λexのレーザビームを試料Sの表層部に集光し、多光子励起でフォトルミネッセンスλphを発生させる。集光スポットを三次元的に移動させながらフォトルミネッセンスλphを画像解析することにより、内部格子欠陥の三次元構造が観察される。
請求項(抜粋):
試料のバンドギャップに対応する光よりも長波長のレーザビームを試料の表層部に集光し、多光子励起で試料からフォトルミネッセンスを発生させ、集光スポットを三次元的に移動させながら内部格子欠陥の三次元構造を観察することを特徴とする材料内部の格子欠陥観察方法。
IPC (4件):
G01N 21/63 ,  G02B 21/06 ,  G02B 21/36 ,  H01L 21/66
FI (4件):
G01N 21/63 A ,  G02B 21/06 ,  G02B 21/36 ,  H01L 21/66 N
Fターム (31件):
2G043AA03 ,  2G043BA01 ,  2G043BA07 ,  2G043CA05 ,  2G043EA01 ,  2G043FA01 ,  2G043GA01 ,  2G043GB01 ,  2G043GB19 ,  2G043HA01 ,  2G043HA06 ,  2G043HA15 ,  2G043JA03 ,  2G043KA01 ,  2G043KA02 ,  2G043KA05 ,  2G043KA08 ,  2G043KA09 ,  2G043LA02 ,  2G043MA16 ,  2H052AC04 ,  2H052AC15 ,  2H052AC27 ,  2H052AC34 ,  2H052AF14 ,  2H052AF21 ,  4M106AA01 ,  4M106BA05 ,  4M106BA20 ,  4M106CB19 ,  4M106DH32
引用特許:
審査官引用 (13件)
  • 特開平2-268256
  • 特開平2-268256
  • 試料の内部欠陥評価装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-172184   出願人:株式会社神戸製鋼所
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