特許

J-GLOBAL ID：200903035043916010

高分子物質の表面改質方法とそのための表面改質装置

発明者： 大久保 章男 ,  上野山 晴三 ,  木村 滋彦 ,  福岡 隆夫
出願人/特許権者： 株式会社京都第一科学
代理人 (1件)： 矢野 正行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-306478
公開番号（公開出願番号）：特開平9-124810
出願日： 1995年10月30日
公開日（公表日）： 1997年05月13日
要約：

【要約】【課題】高分子物質の表面を効率よく改質する方法とそのための表面改質装置を提供する。【解決手段】高分子物質1の表面に紫外線を照射して、その表面を改質する方法において、光源3に向かって窒素ガス、不活性ガス等のように紫外線を吸収しにくいガスを吹き付けるとともに、紫外線の光源3とその高分子物質1との間にガラス4を介在させて、高分子物質1に向かうガスをそのガラス4にて遮断することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

高分子物質の表面に紫外線を照射して、その表面を改質する方法において、光源に向かって窒素ガス、不活性ガス等のように紫外線を吸収しにくいガスを吹き付けるとともに、紫外線の光源とその高分子物質との間に紫外線透過材を介在させて、高分子物質に向かうガスをその紫外線透過材にて遮断することを特徴とする高分子物質の表面改質方法。