特許
J-GLOBAL ID：200903035051268478
脱酸素装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奥山 尚男 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-097251
公開番号（公開出願番号）：特開平5-269306
出願日： 1992年03月24日
公開日（公表日）： 1993年10月19日
要約：
【要約】【目的】 パラジウム触媒の存在下での水素と酸素の反応を利用して水から酸素を除去する脱酸素装置において、水素ガスの消費量を減少させるとともに、処理後の溶存水素ガスの量を0.01ppm以下として、溶存水素により引き起こされる問題を解決する。【構成】 過剰量の水素ガスを被処理水に注入するライン5と、そのラインの下流にあってパラジウム触媒を充填した脱酸素塔4と、該脱酸素塔4の出口に設けられた真空脱気装置7または膜脱気装置10と、該真空脱気装置7または膜脱気装置10において被処理水から分離された水素を主に含むガスを上記脱酸素塔4の上流に注入するためのライン8とからなる。
請求項（抜粋）：
パラジウム触媒の存在下で水素と酸素から水を生成する反応を利用して水から酸素を除去する脱酸素装置において、水素ガスを被処理水に注入する水素ラインと、その水素ラインの下流にあってパラジウム触媒を充填した脱酸素塔と、該脱酸素塔の下流に設けられた真空脱気装置または膜脱気装置と、該真空脱気装置または膜脱気装置において被処理水から分離された、水素を主に含むガスを上記脱酸素塔の上流に注入するためのガスラインとからなる脱酸素装置。
IPC (4件)：
B01D 19/00 101
, B01D 19/00
, C02F 1/20
, C02F 1/58
