レジスト用現像液組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：阿形明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-284929
公開番号（公開出願番号）：特開平6-118660
出願日： 1992年10月01日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：

【要約】【構成】金属イオンを含まない有機塩基と界面活性剤とを含有して成る水溶液に、硫酸アンモニウム、リン酸アンモニウム及びホウ酸アンモニウムの中から選ばれた少なくとも1種のアンモニウム塩を配合させたレジスト用現像液組成物である。【効果】スカム残りがなく、プロファイル形状の良好なレジストパターンを形成することができ、かつ露光余裕度及び焦点深度幅を向上させうるので、半導体デバイスの製造分野において好適に用いられる。

請求項（抜粋）：

金属イオンを含まない有機塩基と界面活性剤とを含有して成る水溶液に、硫酸アンモニウム、リン酸アンモニウム及びホウ酸アンモニウムの中から選ばれた少なくとも1種のアンモニウム塩を配合させたことを特徴とするレジスト用現像液組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/32 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (14件)

特開昭60-225152
特開平1-170941
特開昭62-159148

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