特許
J-GLOBAL ID:200903035095343086
溶鉄製造方法および溶鉄製造装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
梶 良之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-230961
公開番号(公開出願番号):特開2002-047507
出願日: 2000年07月31日
公開日(公表日): 2002年02月15日
要約:
【要約】【課題】 回転炉床式還元炉と溶鉄製造炉との組み合わせによる溶鉄の製造装置において、回転炉床式還元炉からの異物が溶鉄製造炉へ装入されることを防止しつつ回転炉床式還元炉で製造された還元鉄を高温のまま連続的に溶鉄製造炉に供給でき、さらに溶鉄製造炉生成ガスをその量が変動しても回転炉床式還元炉の操業に影響を与えることなく回転炉床式還元炉の還元燃料として有効に利用できる溶鉄の製造方法及び装置を提供する。【解決手段】回転炉床式還元炉1から排出された還元鉄に混入した異物を除去する分級手段3と、前記異物が除去された前記還元鉄を溶鉄製造炉8へ定量的に供給する供給手段6と、溶鉄製造炉8生成ガスの除塵・冷却手段15と、生成ガス量調整手段18とを備えたことを特徴とする。
請求項(抜粋):
少なくとも粉状酸化鉄含有物質と粉状炭素質還元材とを混合してなる原料を還元して還元鉄を得る還元工程と、該還元工程から排出された還元鉄に混入した異物を除去する分級工程と、該分級工程で前記異物が除去された前記還元鉄を溶解し溶鉄を得る溶解工程とを備えたことを特徴とする溶鉄製造方法。
IPC (7件):
C21B 11/08
, C21B 13/10
, F27B 3/18
, F27B 9/16
, F27D 17/00 104
, F27D 17/00
, F27D 17/00 105
FI (7件):
C21B 11/08
, C21B 13/10
, F27B 3/18
, F27B 9/16
, F27D 17/00 104 D
, F27D 17/00 104 A
, F27D 17/00 105 A
Fターム (31件):
4K012DE02
, 4K012DE03
, 4K012DE06
, 4K012DE08
, 4K045AA01
, 4K045AA02
, 4K045AA03
, 4K045AA04
, 4K045BA02
, 4K045DA06
, 4K045DA07
, 4K045RB01
, 4K045RB02
, 4K045RB11
, 4K045RC01
, 4K050AA00
, 4K050BA02
, 4K050CA09
, 4K050CD02
, 4K050CF01
, 4K050CF11
, 4K050CG22
, 4K050DA01
, 4K056AA05
, 4K056BA02
, 4K056BB01
, 4K056BB05
, 4K056CA02
, 4K056DB05
, 4K056DB12
, 4K056DC15
引用特許:
前のページに戻る