特許
J-GLOBAL ID：200903035105565600
非腐食性ガス流から水を除去するための方法、組成物 およびその装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
嶋 宣之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-281998
公開番号（公開出願番号）：特開2000-093734
出願日： 1998年09月17日
公開日（公表日）： 2000年04月04日
要約：
【要約】【課題】 この発明の目的は、半導体、薬物、光学繊維および製造の際に水を嫌う製品の製造に使用する我流から水を除くことである。【解決手段】 この発明は、湿潤非腐食性ガス(例えば、酸素またはCO2を含有するもの)から水を、10〜20ppbの水濃度まで除去するための方法、組成物および装置である。この発明によれば、脱水剤は陽性金属の酸化物または塩であり、少なくとも140m2/g、好ましくは140〜500m2/gの表面積を有し、ガスと相容性であり、好ましくは、このようなガスを1ppb、さらに好ましくは500pptのような低さまで脱水することができる。陽性金属は、第3b族、第4b族若しくはランタニド金属またはバナジウムであろう。好ましい脱水剤は、高表面積のチタニア、ジルコニア、イットリアまたはバナジアであり、特にチタニアが好ましい。脱水剤は、ペレット化された若しくは細粒のバルク物質または支持体上、若しくは支持体の細孔内の皮膜の形態であってよい。
請求項（抜粋）：
湿潤非腐食性ガス流からの水の除去方法であって、非腐食性ガス流を、少なくとも約140m2/gの表面積を有する若干量の陽性金属のガス相容酸化物または塩の表面、またはこれら酸化物あるいは塩の中を通して、該ガス流の水含有量を10ppb以下のオーダーにまで減少させるために十分な時間通過させることからなり、該金属酸化物または塩が、該ガスによって実質的に影響を受けず、このような脱水を長時間継続することができる非腐食性ガス流から水を除去する方法。
IPC (3件)：
B01D 53/26 101
, B01D 53/28
, B01J 20/06
B01D 53/26 101 Z
, B01D 53/28
, B01J 20/06 Z
4D052AA02
, 4D052AA03
, 4D052CE00
, 4D052GA04
, 4D052GB14
, 4D052HA00
, 4D052HB02
, 4D052HB05
, 4G066AA12B
, 4G066AA23B
, 4G066AA24B
, 4G066BA03
, 4G066BA09
, 4G066BA26
, 4G066CA43
, 4G066DA05
, 4G066EA20
