特許
J-GLOBAL ID：200903035106708014
超微粒子製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-360517
公開番号（公開出願番号）：特開平5-200278
出願日： 1991年12月27日
公開日（公表日）： 1993年08月10日
要約：
【要約】【目的】 粒径の揃った超微粒子の結晶粉末を得る。【構成】 原料ガスGにレーザ光L1を照射してブレークダウンにより超微粒子Bを製造する装置において、ホトダイオード等よりなる発光状態検出手段38によりブレークダウンによる発光40の強度や発光域の長さ等の発光状態を検出する。そして、この検出結果に基づいて、制御手段19は、発光状態が所望の状態を維持するようにレーザ発振器18の出力を制御する。これによりブレークダウンするガス分子の量は時間的に一定となり、粒径サイズの均一な超微粒子Bが得られる。
請求項（抜粋）：
レーザ発振器からのレーザ光を、超微粒子用の原料ガスに照射してブレークダウンによる発光を生ぜしめて超微粒子を形成する超微粒子製造装置において、前記ブレークダウンによる発光状態を検出する発光状態検出手段と,前記発光状態検出手段からの検出結果に基づいて、前記発光状態が所望の状態を維持するように前記レーザ発振器を制御する制御手段とを備えるように構成したことを特徴とする超微粒子製造装置。
IPC (5件)：
B01J 19/12
, B22F 9/30
, C01B 33/00
, H01L 33/00
, C23C 16/52
