特許

J-GLOBAL ID：200903035128240849

カラーフィルタの製造方法

発明者： 狭山 征博 ,  堀内 俊二
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-132864
公開番号（公開出願番号）：特開平11-326626
出願日： 1998年05月15日
公開日（公表日）： 1999年11月26日
要約：

【要約】【課題】 シリコンウエハの現像残渣を除去する場合、工程が複雑になり、且つ大径のシリコンウエハにおける残渣除去が困難であった。【解決手段】 基板1上に塗布された感光性着色顔料レジストに光学マスクを介してパターン露光した後、感光性着色顔料レジストに高圧微噴射ノズル9a、9bを用いて現像液7を塗布するカラーフィルタの製造方法において、現像液7を塗布して所定時間放置した後、基板1を回転させるとともに、二基以上の高圧微噴射ノズル9a、9bから基板1へ流体を噴霧状に吹き付ける。

請求項（抜粋）：

基板上に塗布された感光性着色顔料レジストに光学マスクを介してパターン露光した後、該感光性着色顔料レジストに高圧微噴射ノズルを用いて現像液を塗布するカラーフィルタの製造方法において、前記現像液を塗布して所定時間放置した後、前記基板を回転させるとともに二基以上の前記高圧微噴射ノズルから前記基板へ流体を噴霧状に吹き付けることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。

IPC (4件)：

G02B 5/20 101 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 27/14

FI (4件)：

G02B 5/20 101 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 27/14 D