特許
J-GLOBAL ID：200903035142064093
二重圧力勾配型PIG放電によるプラズマプロセシング 装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-187688
公開番号（公開出願番号）：特開平8-022802
出願日： 1994年07月05日
公開日（公表日）： 1996年01月23日
要約：
【要約】【目的】 本発明は高密度プラズマを、大面積、大体積に渡って、低圧力、弱磁場領域にも電極の配置なしで安定に供給して、プラズマプロセシング装置を発展させることにある。【構成】 (1)気体圧力勾配のある直流放電の陰極、中間電極、陽極及び陽極リングを主(真空)容器の端に配置し、その陽極リングの中心穴から、放電プラズマ流が主容器内に拡散して行く。(2)陽極領域には平行な強磁場がかかっており、PIG放電となる。(3)主容器内に拡散するプラズマ流の方向と形は永久磁石によって調節される。
請求項（抜粋）：
磁場に沿って、陰極-穴のある中間電極(複数でもよい)-円筒陽極-穴のある陽極を配置し、陰極側からガスを流して、圧力勾配のあるPIG放電を行なう。かくしてこの陽極の穴を通って、真空容器の中に拡散したプラズマを利用するプラズマプロセシング装置。
IPC (5件)：
H01J 37/32
, C23C 14/30
, H01J 27/04
, H01J 37/08
, H01L 21/205
