特許
J-GLOBAL ID:200903035174496149

露光方法及び露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-113996
公開番号(公開出願番号):特開平9-298148
出願日: 1996年05月08日
公開日(公表日): 1997年11月18日
要約:
【要約】【課題】 露光光の照度低下の問題に適切に対処し得、特に光学系に付着した異物による照度低下の問題を解決した露光方法及び露光装置を提供する。【解決手段】 光源1と、露光が行われる露光部2との間に、光学系を配置してこの光学系によって露光光の光路(光学系配置部3)を構成する露光において、?@光学系をクリーニング可能に構成?A光学系における照度変化を検知可能に構成?B光学系に付着した付着物質の分析を可能に構成?C光源と露光部との間の光学系を2系統以上の光学系に分割し、露光部において1系統に集光する構成?D光源レーザー部分と、光学系と、露光が行われる露光部とをひとまとめにして、同じ環境中において露光を行う構成、にする。
請求項(抜粋):
露光光の光源と、露光光により露光が行われる露光部との間に、光学系を配置してこの光学系によって露光光の光路を構成する露光方法において、前記光学系をクリーニング可能に構成して露光を行うことを特徴とする露光方法。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G03B 27/52 ,  G03F 7/20 521
FI (6件):
H01L 21/30 515 D ,  G03B 27/52 Z ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 E ,  H01L 21/30 515 B ,  H01L 21/30 516 Z

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