特許
J-GLOBAL ID：200903035174628673
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-236091
公開番号（公開出願番号）：特開平7-094456
出願日： 1993年09月22日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：
【要約】【目的】 基板処理時の処理むらの発生を防止する。【構成】 基板洗浄装置3は、基板Wの表面を洗浄する装置であって、基板保持部20とブラシ洗浄部21と移動機構38とを備えている。基板保持部20は、基板Wを水平に保持する。ブラシ洗浄部21は、基板Wの表面を洗浄する回転ブラシ機構45と、回転ブラシ機構45を支持する門型フレーム30とを有している。移動機構38は、回転ブラシ機構45を直線的に水平移動させる。
請求項（抜粋）：
基板を水平に保持する基板保持手段と、基板保持手段に保持された基板の表面に対して所定の処理を施す基板処理部と、基板保持手段を挟んだ2位置から伸張されて基板表面上に基板処理部を支持する支持部とを有する基板処理手段と、基板保持手段に保持された基板の表面に沿って基板処理部が移動するように、基板処理部を直線的に平行移動させる移動手段と、を備えた基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/027
H01L 21/30 564 C
, H01L 21/30 569 C
