特許
J-GLOBAL ID：200903035175210052
露光方法の最適化方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-135491
公開番号（公開出願番号）：特開平10-326735
出願日： 1997年05月26日
公開日（公表日）： 1998年12月08日
要約：
【要約】【課題】 露光条件の数だけウェハを露光しなければならず、実験のコストと時間が膨大となってしまい、さらに複数のウェハを実験に使用するため、ウェハの相違が実験結果に反映して露光条件の優劣の判定を難しくする課題があった。【解決手段】 焦点位置を変動させた場合の挙動が異なる複数のパターンをマスク上に複数配置し、前記パターンを露光量と焦点位置を異ならせて同一のウェハ上のレジストに露光転写し、前記転写の結果を測定し当該転写結果のばらつきを求め、前記ばらつきが最も小さいパターンを求め、該パターンの焦点位置に対する挙動と同様な挙動を示す露光条件を選択することで露光条件の最適化を行う。
請求項（抜粋）：
リソグラフィ工程における露光方法の最適化方法であって、焦点位置を変動させた場合の挙動が異なる複数のパターンをマスク上に複数配置し、前記パターンを露光量と焦点位置を異ならせて同一のウェハ上のレジストに露光転写し、前記転写の結果を測定し当該転写結果のばらつきを求め、前記ばらつきが最も小さいパターンを求め、該パターンの焦点位置に対する挙動と同様な挙動を示す露光条件を選択することで露光条件の最適化を行う露光方法の最適化方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 516 Z
, G03F 7/207 H
, H01L 21/30 526 Z
