特許
J-GLOBAL ID：200903035184494730
スパッタリング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 利之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-079378
公開番号（公開出願番号）：特開平8-232063
出願日： 1992年12月25日
公開日（公表日）： 1996年09月10日
要約：
【要約】【課題】 マグネトロンカソード電極の矩形平板状のターゲットの背面に複数の矩形の磁石ユニットを配置することにより、比較的大型の矩形基板を静止した状態で良好な薄膜を形成できるようにし、ターゲットの不均一消耗や、薄膜の不均質性や、パーティクルの発生を防ぐ。【解決手段】 磁石組立体には5個の磁石ユニットが含まれ、このうち、内側の3個の磁石ユニット74Bは、ヨーク43と磁石固定台座48の間にスペーサ75が挿入されている。その分、磁石ユニット74Aと比較して、磁石部分の高さが小さくなっている。磁石ユニットの間には磁気シールド49が配置されている。単体の磁石ユニット内では磁場均等性を±5%以内にし、両側の二つの磁石ユニット74A同志では磁場均一性を±5%以内にし、内側の磁石ユニット74B同志では磁場均一性を±5%以内にしている
請求項（抜粋）：
内部を真空状態にする排気系を備えた真空容器と、この真空容器の内部に配置され、成膜処理される基板を取り付ける基板保持部材と、前記基板に対して対向する位置関係で配置され、前記基板に成膜する矩形平面状タ-ゲットを備えた少なくとも1つのマグネトロンカソ-ド電極と、前記真空容器の内部にガスを流通させて内部圧力を適切に維持するガス制御系と、前記マグネトロンカソ-ド電極に電力を供給する電源系とを含むスパッタリング装置において、次の特徴を備えるスパッタリング装置。(a)前記マグネトロンカソード電極は、矩形平面状の一つのターゲットの背面に複数の磁石ユニットを備える。(b)前記磁石ユニットは、ターゲット表面に平行な断面形状が矩形であり、その長辺が隣の磁石ユニットの長辺と隣り合うように、複数の磁石ユニットが配置される。(c)前記磁石ユニットの磁極配置は、同一のマグネトロンカソード電極に含まれるすべての磁石ユニットにおいて、互いに等しい。(d)前記磁石ユニットは、ターゲットの表面上に環状の電子ドリフト運動軌跡を生じさせるような構造である。(e)前記複数の磁石ユニットのうち、磁石ユニットの短辺方向における両端の二つの磁石ユニットがターゲット表面上に作る磁場の強さは、それより内側の磁石ユニットがターゲット表面上に作る磁場の強さよりも大きい。(f)隣り合う磁石ユニットの間に磁気シールド壁が配置される。
FI (2件)：
C23C 14/35 A
, C23C 14/35 B
