特許

J-GLOBAL ID：200903035184588327

露光装置及びこれを用いたデバイス製造方法

発明者： 山口 欣也 ,  佐藤 光弥
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-007618
公開番号（公開出願番号）：特開平7-220989
出願日： 1994年01月27日
公開日（公表日）： 1995年08月18日
要約：

【要約】【目的】 照度むらの異常をすぐに検出できる装置を提供すること。【構成】 スリット状露光光7に対してレチクル8とウエハー13を走査することにより露光光7によりレチクル8のパターンを介してウエハー16を露光する露光装置において、レチクルステージ9上に前記露光光7の両端部の光を一対の受光する光検出器10を設け、光検出器10によりウエハー9への実露光動作中に露光光7の強度分布(レチクル8上の照度分布)を走査方向と当該走査方向に直交する方向とに関して計測し、その結果を基準と比較して照度むらの異常の有無を検出する。

請求項（抜粋）：

露光光によりレチクルのパターンを介してウエハを露光する露光装置において、ウエハーへの実露光動作中に露光光の強度分布(照度分布)を計測する手段を備える事を特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 516 C ,  H01L 21/30 502 G