特許
J-GLOBAL ID：200903035184833771

スチレン系オリゴマー及びその製造方法

発明者：
武捨 清

武捨 清 について


出願人/特許権者：
旭電化工業株式会社

旭電化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-301982
公開番号（公開出願番号）：特開平11-140133
出願日： 1997年11月04日
公開日（公表日）： 1999年05月25日
要約：
【要約】【課題】 本発明の目的は、ノニオン性のポリアルキレンオキシドからなる親水性基と芳香環を有する疎水性基を併せ有し、分子中に反応基を有せずに、かつ、親水基と疎水基の間隔と分子量を制御したスチレン系オリゴマーを提供することにある。【解決手段】 本発明のスチレン系オリゴマーは、一般式(1)【化1】(式中、R1は炭素数2〜4のアルキレン基を表し、R2は芳香環を含まない炭素数1〜18の炭化水素基を表し、mは1〜6の整数を表し、nは1〜100の整数を表し、a>0、b≧0である)で表される構造を繰り返し単位として有してなることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
一般式(1)【化1】(式中、R1は炭素数2〜4のアルキレン基を表し、R2は芳香環を含まない炭素数1〜18の炭化水素基を表し、mは1〜6の整数を表し、nは1〜100の整数を表し、a>0、b≧0である)で表される構造を繰り返し単位として有してなるスチレン系オリゴマー。
IPC (5件)：
C08F112/08 ,  C07C 41/30 ,  C07C 43/164 ,  C08F112/14 ,  C08F290/06
FI (5件)：
C08F112/08 ,  C07C 41/30 ,  C07C 43/164 ,  C08F112/14 ,  C08F290/06
引用特許：
審査官引用 (4件)
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